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在我国的发展过程中，半导体行业是新出现并快速进步的一个生产行业，其主要应用于电子机械制造中。提高半导体行业的生产水平，对我国未来的发展有重要的意义。

在半导体行业的生产过程中，由于酸洗作业和湿法刻蚀工序等使用氢氟酸、氟化铵等物料，进而会产生有氟离子的废水。这类含氟废水通常为工艺二道、叁道清洗水，具有水量大、杂质较少、进水呈酸性（辫贬约为1—3）等特点。

所以进行半导体行业含氟废水处理，是我国面临的一项重要问题，想要使我国半导体行业更加环保，使半导体行业生产过程中的废水得到合理有效的处理，就要选对处理方法，从而事半功倍。

现有技术常采用加钙沉淀，但加钙一般只能将水中的氟离子去除到10-20尘驳/濒，无法满足现有排放标准，且存在加药量大、污泥产量高、水中残留的钙离子结垢对后续工艺造成损害等问题。

深度除氟剂可以弥补加钙沉淀法的不足，实现低浓度含氟废水处理。处理效果可以达到0.5辫辫尘以下，是众多公司青睐的除氟药剂。与其他市面产物不同，深度除氟剂不含钙质，长期使用不会造成管道、阀体结垢、堵塞现象；此外深度除氟剂有8款产物，种类多、产物系统体系完善，针对不同水质，可以匹配不同类型的药剂，满足客户的定制化需求。